微电子生产设备外延炉氧化扩散退火设备腐蚀清洗机槽式单机试运转及验收范例.docx

微电子生产设备外延炉、氧化/扩散/退火设备、腐蚀清洗机(槽式)单机试运转及验收范例试运转前应检查下列项目，并应在符合要求后进行单机试运转：1环境洁净度等级应为5级，环境温度应为22°C±05°C,相对湿度应为45%±5%；2三相交流电源：AC380V÷10,频率50±1Hz0UPS电源开启正常；3设备本体接地良好，接地电阻W1Q；4设备控制系统、气路系统、硅片传输系统、反应腔室、水冷/风冷系统、电源柜、排气系统等均可正常运行；5二次配管系统的连接、标识、压力、阀门状态等检查正常；6驱动氮气压力应为0.50.7MPa；7普通氮气压力应为0.61.2MPa；8工艺冷却水进回水压差应大于0.3MPa,单腔合计水流量应大于831PM。BUbbIer水流量正常，温度1820C。，控温精度±0.1C。干泵水流量2.53.0S1M；9所有安全互锁功能正常开启；10正常上电开机后无故障报警。E.7.2验收项目应符合下列要求：1气柜氢检漏率1E-8mbar1s,正压漏率0.1%/h(12h,20psi)；2工艺腔、传输腔均保压合格，氢检合格；3额定风速时，上风压和下风压都应大于IOOPa；4反应腔室工艺温度控制精度满足设计要求；5传输系统稳定可靠，连续500片传送无故障，晶圆表面无划伤；6整机系统控制正常，安全防护功能正常。腐蚀清洗机（槽式）试运转前应检查下列项目，并应在符合要求后进行单机试运转：1环境洁净度等级应为5级，环境温度应为22"C±05°C;2三相交流电源：AC380V÷10,频率50±1Hz;3设备本体接地良好，接地电阻W1。；4系统控制柜、化学药液供给系统、传输移载系统、加热控制系统、气路系统、快速排气系统、排风装置等均可正常运行。5去离子水管路应采用PFA管，去离子水压力范围0.250.4Mpa,流量不小于351min;6化学药液管路应采用PFA管，手阀开关位置检查正常；7排水管路应采用PFA管，管径不小于50mm；8氮气管路应采用PFA管或316AP管，接口形式为卡套，氮气压力范围0.250.7Mpa;9去离子水自动注入功能正常；10漏液检测功能正常；11废液排放功能正常；12排风装置运行正常；13所有安全互锁功能正常开启；14正常上电开机后无故障报警。验收项目应符合下列要求：1排风口直径应为50200mm,每个排风口排风量不应小于85001min;2传送移载系统工作正常，机械手抖动频率应为3060次min,可设定，抖动行程宜为Ic）mm；3去离子水快速注入，注入完成时间不应大于150s；4去离子水快速排放，排放完成时间不应大于6s；5清洗槽加热控制系统满足设计要求；6氮气干燥系统性能满足设计要求；7整机系统控制正常，安全防护功能正常。氧化/扩散/退火设备试运转前应检查下列项目，并应在符合要求后进行单机试运转：1环境洁净度等级应为5级，环境温度应为22°C±0.5°C,相对湿度应为45驰±5%；2三相交流电源：AC380V+10,频率50±1Hz;3设备本体接地良好，接地电阻不应大于1Q；4系统控制柜、气路柜、硅片移载系统、功率控制系统、水冷系统、净化工作台、排毒箱、排气系统等均可正常运行；5二次配管系统的连接、标识、压力、阀门状态等检查正常；6湿度传感器、室内温度传感器、风压传感器、空气质量传感器应设置合理，工作正常；7工艺冷却水压力应为0.5MPa,流量应为5101min;8压缩空气压力应为0.40.7MPa,流量应为10201min;9设备气路柜风量应为1015rr7min,排毒箱排风量应为812m3mim10所有安全互锁功能正常开启；11正常上电开机后无故障报警。验收项目应符合下列要求：1设备的温度传感器、压力传感器、水流开关、水流量计、真空规管工作应显示正常。2反应室/炉体温度控制性能和升降温速度满足设计要求;3设备晶舟移载系统、推拉舟装置应工作正常；4整机系统控制正常，安全防护功能正常。