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    光刻机生产设备单机试运转及验收范例(1).docx

    • 资源ID:225804       资源大小:20.54KB        全文页数:3页
    • 资源格式: DOCX        下载积分:3金币
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    光刻机生产设备单机试运转及验收范例(1).docx

    光刻机生产设备单机试运转及验收范例E.1.1试运转前应检查下列项目,并应在符合要求后进行单机试运转;1环境温度应为22°C±1°C,相对湿度应为40%60%,洁净度等级应为5级,室内光线应为黄色。2三相交流电源电压应为220V±10%,频率应为50±1Hz°3机壳应有良好的接地。4压缩空气压力应为0.50.7MPa05真空压力应为一0055-008MPa06安装间内不得有腐蚀性气体、电磁辐射,振动频率大于等于IoHZ时,安装机器周围的振动幅度应小于3m,振动频率小于IOHZ时,安装机器周围的振动幅度应小于1.5m°7开机前按钮均应处在关闭状态。E.1.2验收项目应符合下列要求:1设备验收应符合表E.1.2的规定。序号项目规范验收条件测试数据1分辨率0.4m1&S镜头5个点位测试2公共焦深工0.6Um镜头5个点位的0.4um分辨率的测试条测试3总体焦点偏差0.40m镜头5个点位的0.4Um分辨率的测试条测试4像面倾斜Within±0.35m镜头5个点位测试5弯曲Within±0.2m镜头5个点位测试7镜头畸变Within±50nm标准测试方式8焦点测量重复性3IOOnm20次测量9长期焦点稳定性测试Within±0.3m一周测试10镜头控制精度D倍率控制精度2)焦点控制精度1) Within±20m2) Within±0.15um镜头加热IOOmin,冷却180min测试11最大曝光区域22.0mm(hor.)x22.0mm(ver.)显微镜下观察12光罩挡板精度+0.4mm+0.8mm(onretic1e)显微镜下观察13曝光能量620mWcm2使用照度计测量14光强均匀性Within±1.5%5次测试15积分曝光控制精度D50mJcm2ormoreWithin±1.0%使用照度计测量2)100mJcm2Within±0.5%16光罩旋转测试精度IMI+320m测试值对比目标值17套刻精度1)FIA-EGAIMI+375m镜头5点测试2)1SA-EGA*IMI+375nm18正交性测试Within±0.1sec.3个晶圆的平均值19步进精度345nm镜头22点测试,2个晶圆20预对位精度315m统一晶圆60次测量,包括xV、o21传送测试1)晶圆传输系统成功率:99%500个一组测试2)十字传输系统成功率:100%10个一组测试2设备自动化要求设备需具备SMIFINTERFACE功能,设备需要支持SECS协议通讯,通讯方式需支持RS232或HSMS(TCP/IP),且硬件和软件功能都必须完好可用,提供对应SECSManua1,提供对设备工作流的说明,提供机台对应VID1IST,SVID1IST,ECID1IST,CEID11ST说明,提供解析ReCiPeBody的对应说明。3设备安全测试测试根据国际半导体设备暨材料SEMI-S93a准则。对该设备的EMo按钮和安全联锁进行逐一测试:激活时设备能够进行下一步运行功能,如果一旦失效,设备不能进行下一步操作。4防火测试测试方式:主要调查的是设备建造材料、烟雾探测系统,利用手持烟雾系统进行测试,一旦激活系统烟雾传感器,整机自行关电。

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