原料药有机杂质控制思路与趋势.docx
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1、原料药有机杂质控制思路与趋势开篇语原料药杂质在USP中定义为任何不同于原料药结构的物质,在中国药典中为任何影响药品纯度的物质。ICHQ3A将原料药中杂质分为有机杂质,无机杂质杂和残留溶剂。原料药中有机杂质来源于合成工艺相关的杂质及储存过程中产生的杂质。有机杂质的控制对于药物的安全性和有效性有着重要的意义。一、关于法规杂质研究与控制是药物研究中的一项系统工程,CTD申报资料中与杂质相关的章节体现了杂质控制和终点控制相结合的策略,符合药品质量研究中全面系统的质量控制理念。原料药申报资料中涉及到杂质研究与控制的内容有八个模块小节:3.2.S,2.3生产信息中的物料控制,3.2.S.2.4关键步骤和中
2、间体的控制,3.2.S.3.2特性鉴中的杂质谱分析,3.2.S.4.1原料药质量控制中的质量标准,32S.42分析方法,3.2.S.4.3分析方法验证,3.2S4.4批检验报告和3.2.S.4.5质量标准制定依据等章节。申报资料的撰写应高度关注杂质分析与控制的系统性和法规对于杂质控制的要求。ICHQ3A指南针对的是新原料药中杂质的研究与控制,杂质的研究范围是与工艺相关及原料药降解的有机杂质。对于无机杂质、残留溶剂和元素杂质的研究与控制在ICH中其它的相关指南有详细叙述。ICHQ3A指南中的杂质不包含原料药中外来污染物质、多晶形物质及立体异构体。对于原料药中基因毒性杂质的控制ICHQ3A不再适用
3、,由ICHM7指南补充指导。USP通则1086,原料药和制剂杂质的内容是原料药和制剂中杂质的研究与控制指南。原料药中杂质指的是与工艺相关及原料药降解的有机杂质。USP在2017年新建立了一个通则476,原料药与制剂的杂质控制,主要内容是药典各论中已有的原料药与制剂中杂质分析测试与控制,提出了有机杂质控制决策树,如下图,具体内容可参考PF43(6)1,图1:原料药和制剂中有机杂质控制决策树二、关于原料药不同阶段的杂质控制从药品研发至产品上市通常需要经历较长的时间,不同研发阶段的关注点不同。各阶段开展杂质研究的首要任务是患者的安全,根据拟定的治疗适应症、剂型、给药途径、给药持续时间和患者人群,杂质
4、研究根据具体情况,具体分析。成本是阶段性杂质研究的主要考虑因素之一。早期临床研发阶段需重点研究原料药中最有可能存在和已经存在于的有机杂质。原料药合成过程中使用的起始物料、中间体、试剂、催化剂和溶剂均是明显的潜在杂质。合成工艺中距离终产品原料药的反应步骤是与潜在杂质被清除的可能性相关。最后一步反应的中间体、试剂和溶剂等,以及可预测的副产物和主要降解产物是这个阶段杂质研究的重点。在临床I11期及后面的阶段,待商业化合成路线确定后,需要深入研究各步骤中潜在的杂质,开展杂质清除和衍生化研究,以确定合成工艺控制的关键点。随着药物临床的进展,收集更多的批次杂质数据和稳定性数据,未知杂质的结构需要鉴定,必要
5、时开发补充分析方以确认潜在杂质的存在与否。对于遗传毒性杂质,ICHM7提供了具体的指导。由于起始物料中的杂质可能影响到最终产品中的杂质控制,越接近最后产品合成步骤的起始物料,引入杂质的风险越高,因此对杂质研究和控制的要求也越高。起始物料中杂质控制策略在FDA与制药企业在I1期会议中常讨论的话题。ICHQ11指南阐述了起始物料控制,包括杂质控制及物料选择的合理性。工艺杂质的研究方式有“正推”和“逆推”两种。“正推”就是从原料开始追踪每一步反应,把每一步反应研究清楚,说明杂质的来源。“逆推”顾名思义是从产品开始向起始物料找到杂质的来源。“正推”方法能更清楚每一步反应的主副反应机理,对于杂质的来源会
6、更加明确,从而优化工艺参数,确定关键工艺参数。原料药中的降解杂质是原料药在储存或稳定性研究过程中产生的杂质。降解杂质可以通过强制降解和影响因素实验研究获得。强制降解和影响因素条件与正常存放的情况有较大的不同,影响因素一般考察温度、湿度、光度、空气暴露等对产品质量的影响。三、关于杂质研究中的分析方法技术通常说的杂质谱包括药物中杂质的种类、含量、来源及结构等信息。通过杂质谱分析能较为全面的掌握产品中杂质的概况。原料药中杂质谱的研究需要有针对性地选择合适的分析方法,确保杂质的有效检出、定量和确认。在新药研究早期,会选择与MS兼容的分析方法,有利于收集杂质的MS信息。后期根据需要调整适用于杂质属性的方
7、法。对于药典各论中杂质控制,通常通过标准品进行定量与定性;如果没有标准品,则用RRT和RRF来进行定性和定量。药典收载的一些杂质分析方法比较落后,专属性较差。在进行仿制药研究时需要更新这类分析方法,开发那些具有专属性的色谱或光谱方法进行杂质控制研究。面对杂质的微量和复杂性,检测方法的专属性、灵敏度和准确度十分关键。当原料药中不同杂质不能同时被一种方法检测时,应考虑开发不同分析方法,分别进行检测。杂质分析方法的对象是各个潜在的杂质,因此分析方法的验证需要根据不同杂质的特点综合设计验证方案,进行有针对性的规范验证。采用HP1C-UV/GM-FID方法可以满足大部分杂质分析与控制的要求。对于微量和极
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