芯片难题的解决方案之碳纳米管芯片.docx
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1、芯片难题的解决方案之碳纳米管芯片L芯片难题的两种解决方案当前的大背景是:以硅为基础原料(简称“硅基”)、以冯诺依曼结构为基础设计的芯片,在2012年之前一直符合摩尔定律。也就是,性能每18 - 24个月提升1倍,同时,单位性能的成本下降一半。但2012年之后,提升的脚步就慢了下来。如今,制造工艺已经达到了 3 nm,快要摸到硅基材料的物理上限了。到了这个尺寸以后,因为量子隧穿效应的存在,就很难精准控制最基础的半导体元件开关的“开”与“关” 了。面对这个问题,有终极解决方案和短期解决方案两种研发方向。终极解决方案的最大特征就是抛弃冯诺依曼结构,比如使用模拟芯片、量子计算机、存算一体结构等等。但这
2、些终极解决方案想要发展到今天计算机的普及度,需要太久的时间了,也许30年,也许60年。除了需要芯片工艺的提升之外,还需要全产业链的调整,包括算法的重新发明、编程语言的重新发明、设计软件调试工具的重新发明、操作系统的重新发明等等。很可能是在我们有生之年都看不到的事情。Drain e I ect rodeGate e I ect rodeSource e I ect rodeGate (Metal)fIow of eIect r i c i tyN typediffusion zoneN typediffusion zonep-type Si substrate这只是打个比方而已,实际上是这样的:
3、当加上电压的时候,和闸门相连的区域就带了电。这片区域正好和左右两侧的源极与漏极,形成了一片可以供电子流过的通道。于是,电子就哗哗哗地流了过去。在宏观上,就好像是一个闸刀的开关合上了一样。今天,全球半导体行业遇到的困境就是,闸门的尺寸越来越小,即便加了电压,也影响不到闸门下面电流通道的开闭了。尽管有各种工艺,能把闸门以不同的方式直接插入到电流通道里面去,让闸门包裹住整个通道,加强管控能力。但那也只是临时的改善措施,离极限依然是越来越近的。如果依然保留冯诺依曼结构,面且还继续使用当前的光刻机和工艺,能不能找到一些新材料,把极限再大幅拉升一把呢?能。现在有一个发展方向,就是碳纳米管芯片。碳纳米管芯片
4、的基础单元,和之前硅基芯片的基础结构非常像。我把它们的结构图放在下方了,一共两张图,上面的图是传统硅基的结构,下面的图是碳纳米管的。Gat e i nsuI at i on film(Ox i de film)我们会发现,碳纳米管的基础结构和传统的硅基半导体的基础结构太像了。最下面都是纯硅衬底,上面有一层二氧化硅的膜。在这层膜上,中间是栅极,两边分别是源极和漏极。唯独有一点不同的是,在从前,源极到漏极之间的电子流动通道,并不是像水渠一样的实体沟道。电子可以流过的是一个随电压变化而不断变化的立体区域。有点像墙里的水管轻微开裂后,墙体一部分被水印湿了一样,就是这样一片界限模糊的区域。但是,碳纳米管
5、芯片就不再依赖这个由硅基掺杂其它物质形成的区域了。在碳纳米管芯片里,电子真的要靠一根根实体的管子来完成传输。这些管子就是碳纳米管。它一样可以通过改变栅极的电压,来控制电流的流动和停止。3 .碳纳米管材料的优势首先,极限尺寸和当前的硅基材料大致相同。比如说,硅基材料芯片的物理极限是1平方毫米内容纳5亿个开关。换成碳纳米管也可以做到,而且操作起来,困难没有硅基那么大。碳纳米管是什么呢?如果我们把碳原子在平面上只铺一层,那这薄薄的一层碳原子就叫作“石墨烯”,把这一层碳卷成卷就是碳纳米管。虽然制造过程并不是把石墨烯卷起来,但碳纳米管也确实保留了不少石墨烯的神奇特性。比如,碳纳米管的导电性非常好,几乎是
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