精密光学行业分析.docx
《精密光学行业分析.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《精密光学行业分析.docx(18页珍藏版)》请在第一文库网上搜索。
1、精密光学行业分析一、蔡司:全球光学光电子行业标杆1.1 历史沿革:生产显微镜起家,逐步拓展产品矩阵蔡司是全球光学行业标杆企业。蔡司成立于1846年,至今已有177年历史。蔡司以生产显微镜起家,逐渐形成半导体制造技术、工业质量与研究、医疗技术和光学消费品市场四大业务板块,业务遍及全球近50个国家和地区,拥有约30个生产工厂、60家销售和服务公司以及27个研发基地,是光学和光电子领域的全球标杆企业。生产显微镜起家,逐步拓展产品矩阵。1847年,公司开始生产显微镜;1890年,发布第一款相机光学镜头,切入光学消费品领域;1908年,开始转向眼科测量仪器的研发,进入医疗光学领域;1931年,开始研制电
2、子显微镜,丰富了工业领域的产品矩阵;1968年,为TeIefUnken生产用于光刻的新型光学器件,标志着公司进入半导体制造领域。1.2 主营业务:立足光学光电子,布局四大业务板块布局四大业务板块,产品矩阵丰富。公司业务可划分为四个部分,共九个战略业务单元:半导体制造技术(SemiCOndUCtOrManufacturingTechno1ogy):包括光刻光学、光掩膜系统和过程控制解决方案,覆盖了微芯片生产的各种关键工艺。工业质量与研究(Industria1QuaIitySResearch):1)工业质量检测:例如坐标测量机、三维X射线检测设备等,被广泛用于汽车、工业、飞机建造、塑料工业等领域,
3、提供生产质量检测;2)科学研究显微镜:包含光学、电子、离子、X射线显微镜,被广泛用于生命科学、材料研究、以及制药等行业。医疗技术(MediCa1TeChnOIogy):包含眼科手术器械和手术显微镜及可视化系统。消费市场(ConsumerMarkets):包含视觉护理、摄影、运动光学等。蔡司是世界上最大的眼镜镜片制造商之一,除此之外,还为客户提供相机和电影镜头、望远镜等高端产品。国2:祭司业务布局平导体制迨工支用床与研究医疗技术光学消品率导体,迫?学件工生小立/发方上“科4XgH(*#)辛导体改第决方fV1u1IUM1/方/a*涓,奥无学产品(过程检,翳决方/M机统头、212.6%o其中,半导体
4、制造技术业务由于下游光刻需求快速增加,近两年增长加速,收入占比超过30%。二、全球光学行业标杆,开拓高端光学蓝海市场2.1 半导体制造:蔡司为EUV光学镜片唯一供应商,地位显著2.1.1 光刻机:半导体工业皇冠上的明珠光刻机是半导体工业皇冠上的明珠。芯片前道工艺七大设备包括光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机和其他设备。光刻机主要作用就是将掩膜板上的芯片电路转移到硅片,是IC制造中最为核心的环节。作为芯片制造过程中必不可少的精密设备,光刻机性能决定了芯片的制程和性能,因此光刻机被誉为半导体工业皇冠的明珠。工作原理:在IC制作过程中,激光器作为光源发射光束穿透掩膜板及镜片,经物
5、镜补偿光学误差,将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上,然后显影在硅片上,理论上相当于与照相机加投影仪组合。S8:光刻机简易工作原理图发展历程:由于光刻机直接决定了晶体管尺寸,而晶体管尺寸对于芯片的性能起决定性作用。因此在半导体产业不断追求芯片尺寸更小、性能更强的背景之下,光刻机也不断创新迭代。从最早的普通光源到使用193nm波长的DUV激光,再到13.5nm的EUV激光,制程节点已提升到73nn据ASM1,下一代EUVO.55NA光刻系统(将数值孔径从0.33提升至0.55)预计2025年投产,进一步提高芯片生产效率。市场格局:全球光刻机市场三足鼎立,AMS1龙头地位凸显。全球前道设备光刻机市
6、场已基本被ASM1、尼康、佳能所垄断,2023年三家光刻机厂商合计出货量达551台。按平均售价测算,2023年全球市场规模达189亿美元。其中,ASM1独占鳌头,22年实现光刻机出货345台,其中EUV光刻机出货40台,系EUV唯一供应商。据ASM1,公司未来将大幅提升产能,预计202526年将实现年产90台EUV光刻机和600台DUV光刻机,并且在2027-28年增产20台HighNAEUV光刻机,未来市场潜力巨大。光刻机主要包含五大核心基础硬件模组:1)光学系统:包含光源模组(SOUrCe)、照明模组(i11uminationmodu1e)和物镜模组(OPtiCs)。紫外光从光源模组生成之
7、后,被导入到照明模组,该系统要对光的能量、均匀度、形状进行检测和控制),光穿过光罩后,物镜模组将影像聚焦成像在晶圆表面的光阻层上;2)光罩模组:分为光罩传送模组(Retic1eHandIeIj及光罩平台模组(RetiCIeStage)。光罩传送模组负责将光罩由光罩盒一路传送到光罩平台模组,而光罩平台模组负责承载及快速来回移动光罩。3)晶圆模组:分为晶圆传送模组(WaferHandIer)及晶圆平台模组(WaferStage)o晶圆传送模组负责将晶圆由光阻涂布机一路传送到晶圆平台模组,而晶圆平台模组(一般是双平台)负责承载晶圆及精准定位晶圆来曝光。光学系统是光刻机最核心的模块,决定光刻机的工艺能
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 精密 光学 行业 分析
