铌酸锂薄膜制备及其性能表征调研报告.docx
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1、锯酸锂薄膜制备及其性能表征调研报告最近,LiNbO3薄膜表现出很大的潜力应用于光子技术等等已经开发了用于制造域控制的技术LiNbO3晶体结构特别是在薄膜。TM已经指出单结晶的LiNbO3膜不是必需的声学和光学应用,因为它是足够的获得c取向的薄膜以创建单个d33系数。锯酸锂具有优良的压电、电光、声光和热电等性质,成为电光装置和声表面装置的首选材料之一。目前主要用来制造光波导、光调制器及声表面波(SAW)装置。锯酸锂之所以是重要的铁电材料,还因为它具有一些独特的性质,诸如有很高的自发极化强度、很高的居里温度(1210C)及很大的双折射值。由于在集成光学装置的大量需求,使得铜酸锂的研究非常活跃。Li
2、NbO3薄膜的制备方法很多,其中包括:电子束蒸镀法、溅射法(sputtering)、脉冲激光沉积法(PLD)、化学气相沉积(CVD)和溶胶-凝胶法(Sol-gel),Pechini法。a.溅射法(sputtering)目前溅射法应用比较广泛,它利用高速运动的惰性气体离子反靶面上的离子轰击下来后再沉积到衬底(加热或不加热)。为了改善薄膜层的质量和均匀性,常常采用高频等离子放电并用磁场加以控制(射频磁控溅射)。溅射法靶材有烧结陶瓷、陶瓷粉末和复合金属(反应溅射)或多金属靶(多元靶溅射或反应共溅射)。陶瓷靶寿命较长,薄膜的均匀性和一致性较好,但化学成分比较难调整。粉末靶容易调整化学计量比,也能得到很
3、好的薄膜质量。溅射靶也可以直接采用金属元素,利用可转换的单一金属靶,轮流按时间序列进行溅射,改变各靶的溅射时间可调整薄膜的组成。近年来正在发展且很有希望的制备技术是反应共溅射,即采用多个金属靶同时进行溅射,并分别改变各靶的溅射条件以获得较好的制膜结果。采用金属靶制备薄膜需要在溅射时充入氧气,以生成氧化物,故称为反应溅射。溅射法制备LiNbO3薄膜,靶材一般用LiNbO3陶瓷或锂、银两种金属元素。后者将两金属以一定方式分布在可旋转的圆盘上,改变各元素所占面积以调整薄膜的化学组成。靶材直径约60mm,靶材与衬底的距离约3050mm。衬底一般选用SiO2Si、LiTaO3a-AI2O3等。视情况控制
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