氩离子抛光仪样品制备介绍系列一块体金属.docx

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1、JEO1负离子抛光仪（CP）样品制备方法介绍系列系列一：块状金属作者：扫描电镜应用工程师陈青山张君颖产品经理川内一晃本系列将会以JEO1独有的冷冻空气隔绝型氮离子抛光仪（CCP）为测试机型，详细介绍几种典型样品的制备方法及抛光条件。如有问题请联系JEO1北京事务所应用部:010-68046321一.样品的前处理1 .确认样品材料判断抛光时间3铁（有镀层）因此刻蚀速率近似于硅（500umH）2 .如大于11mm（宽）10mm（长）2mm（高）则需要切割至最大尺寸范围之内34 .将切割好的样品至于自带的Handy1aP（或自动机械抛光机）上，将横截面部分的毛刺和样品上表面（和CP中遮光板接触面）抛

2、光。56 .如样品是均质，则无需使用G2树脂进行包埋保护。如有镀层，则使用G2树脂将被层面包埋，起到保护作用二.置样品于样品座（示意图中样品座为CCP样品座）12 .将带有遮光板的样品座（1）放在调节架（2）上3 .将调节架合上，样品座的样品弹簧夹即可打开。45 .将样品插入样品座上弹簧夹内6 .将样品距离调节器（3）夹在遮光板上，是样品待刻蚀的横截面与样品距离调节器紧密结合（这一动作使样品待刻蚀横截面突出遮光板IoOUm左右）三.置样品座于CP中（示意图中样品座为CCP样品座）78 .将CP放气，打开样品室9 .将样品座置于样品台上调节样品台的X,Y方向，使样品上表面突出遮光板约IooUm。需注意样品上表面光滑平整并与遮光板紧密结合，没有缝隙。四.设置参数放置好样品，只需简单地设置好电压，时间参数。就剩坐等了！五.CP刻蚀结束，上电镜备注：JEO1全系的氮离子抛光仪标配了间歇模式（可自动打开和关闭离子束）以及精抛模式，可有效减少样品的损伤。CCP样品托可直接放入JEO1任意型号的扫描电镜和电子探针进行直接观察，避免了重复上样的繁琐步骤。