浅析现代半导体产业中常用的半导体材料.docx
《浅析现代半导体产业中常用的半导体材料.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《浅析现代半导体产业中常用的半导体材料.docx(16页珍藏版)》请在第一文库网上搜索。
1、浅析现代半导体产业中常用的半导体材料目录编者按2?常用的半导体材料2?硅(Si)2?氮化钱(GaN)2?碳化硅(SiC)2?磷化钱(GaP)2?氧化铝(AI2O3)2?神化镇(GaAS)2?氮化硅(Si3N4)3?半导体材料使用到的产业3?产业定位3?半导体材料分类状况3?半导体供需现状5?工业硅5?需求端6?氮化像7?光引发剂9?全球半导体产业现状10?市场规模10?区域结构11?市场结构12?2023年全球晶圆制造材料市场份额占比情况125.1.硅片135.2.光刻胶135.3.电子特气145.4.CMP145.5.光掩膜155.6.溅射靶材155.7.石英材料155.8.湿化学品16编者
2、按半导体材料是半导体产业的核心,它是制造电子和计算机芯片的基础。半导体材料的种类繁多,不同的材料具有不同的特性和用途。本文将介绍现代半导体产业中常用的半导体材料。常用的半导体材料硅(Si)硅是最常见的半导体材料,它具有稳定性好、成本低、加工工艺成熟等优点。硅材料可以制成单晶硅、多晶硅、非晶硅等形式,其中单晶硅在制造集成电路方面应用最广泛。硅材料的主要缺点是它的导电性较差,需要掺杂其他元素来提高其导电性。氮化钱(GaN)氮化像是一种新兴的半导体材料,它具有高电子迁移率、高电导率和高热稳定性等特性。氮化铁可以用于制造高效率的1ED和高功率半导体器件。此外,氮化钱还可以应用于航空航天、国防、通讯等领
3、域。碳化硅(SiC)碳化硅是一种新兴的半导体材料,它具有高温稳定性、高频特性和高耐电压能力等优点。碳化硅可以用于制造高功率、高频率和高温度的半导体器件,例如功率放大器、高速开关、射频器件等。磷化钱(GaP)磷化钱是一种常用的半导体材料,它具有高电导率和高光电转换效率等特性。磷化钱可以应用于制造太阳能电池、光电探测器、光电导和1ED等器件。氧化铝(川2。3)氧化铝是一种常用的绝缘体材料,它具有高介电常数、高电阻率和高耐热性等特性。氧化铝可以用于制造MoSFET、DRM等器件中的绝缘层。神化钱(GaAS)神化钱是一种半导体材料,它具有高电子迁移率和高速度等特性。碎化钱可以用于制造高速电子器件,例如
4、高速晶体管、高速光电探测器和高速逻辑电路等。氮化硅(si3N4)氮化硅是一种绝缘体材料,它具有高介电常数和高耐热性等特性。氮化硅可以用于制造MOSFET、DRM等器件中的绝缘层。半导体材料使用到的产业产业定位集成电路产业链包括设计、制造和封测等关键步骤,其中半导体材料是集成电路上游关键原材料,按用途可分为晶圆制造材料和封装材料。集成电路产业链简图资料来源:中芯国际招股书,华经产业研究院整理半导体材料分类状况半导体材料包括晶圆制造材料和封装材料。其中晶圆制造材料包括硅片、掩模版、电子气体、光刻胶、CMP抛光材料、湿电子化学品、靶材等,封装材料包括封装基板、引线框架、键合丝、包封材料、陶瓷基板、芯
5、片粘结材料和其他封装材料。半导体材料产业分类状况此片掩膜板电子气体一光刻胶及辅助材拜CMP抛光材料一湿电子化学品一靶材及其他晶图制造材料封装材料资料来源:安集科技公告,华经产业研究院整理国内半导体产业从上游的设备、材料,再到集成电路等产品,对外依存度整体保持较高水平,尤其是在高端晶圆制造材料。目前国内企业目前在电子气体、硅片、湿电子化学品、CMP抛光液等领域有所突破,但在高端光刻胶、CMP抛光垫等领域进展较慢。半导体材料行业细分门类多,且技术上存在较大差异,导致子行业竞争格局相差较大,国内企业所面临的市场环境、竞争对手、下游客户也不相同。主要半导体材料梳理主要半导体材料梳理半导体村料介绍涉及半
6、导体产业链睢片硅片是制作集成电路的重要材料,是由单晶硅切割成的薄片。根据硅片直径尺寸不同分为6英寸、8英寸、12英寸等规格。一般把直径大于200(8英寸)的硅片称为大硅片。拉单晶、切割等电子气体应用于集成电路、新型显示等半导体领域的特种气体。氧化、刻蚀、离子注入、气相沉积等光刻胶光刻胶是利用化学反应进行微细加工图形转移的媒体,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。涂光刻胶等光刻胶配套试剂光刻工艺中所涉及到的电子化学品,包括稀释剂、显影液、漂洗涂光刻胶、显影等靶材在测射过程中,高速度能的离子束流轰击的目标材料,是沉积薄膜的原材料。金属溅射等CHP材料CM
7、P指化学机械抛光,是化学腐蚀与机械磨削相结合的一种抛光方法,用于精密加工领域,是目前唯一能够实现晶片全局平坦化的实用技术和核心技术。CMP材料包括抛光垫、抛光液化学机械抛光等湿电子化学品(包括超纯试剂及光刻胶配套试剂)一般是指尘埃颗粒粒径控制在05凤以下,杂质含量低于pp及(10-6为ppm,10(-9为ppb,是10-12%表面清洗、蚀PPt)的化学试剂,是化学试剂中对颗粒粒径控制、杂质含量刻、显影、;去要求最高的试剂。这种试剂包括超净高纯酸及碱类、超净高膜、掺杂等纯有机溶剂和超净高纯蚀刻剂。资料来源:公开资料整理?.半导体供需现状?.1.工业硅就半导体原材料供给情况而言,中国是全球最大的金
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 浅析 现代 半导体产业 常用 半导体材料