流化床法颗粒硅总金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法.docx
《流化床法颗粒硅总金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《流化床法颗粒硅总金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法.docx(6页珍藏版)》请在第一文库网上搜索。
1、ICS77.040CCSH17YS中华人民共和国有色金属行业标准YS/TXXXXXXXX流化床法颗粒硅总金属含量的测定电感耦合等离子体质谱法Testmethodformeasuringtota1meta11icimpuritiescontentingranu1arpo1ysi1iconusedforf1uidizedbedmethodbyinductive1ycoup1edp1asmamassspectrometry(预审稿)XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施中华人民共和国工业和信息化部发布本文件按照GB/T1.1-2023标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则的规定
2、起草。本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SACTC203/SC2)提出并归口。本文件起草单位:江苏中能硅业科技发展有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司本文件主要起草人:.流化床法颗粒硅总金属含量的测定电感耦合等离子体质谱法1范围本文件规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定流化床法颗粒硅中总金属杂质含量的方法。本文件适用于流化床法颗粒硅总金属杂质如铁、铭、银、铜、钠、镁、铝、钾、钙、锌、钛、铝、鸨、钻等含量的测定,各元素检测检测上限为50ngg,检测下限根据实验室的综合条件决定。2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引
3、用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。GB/T25915.1洁净室及相关受控环境第1部分:按粒子浓度划分空气洁净度等级。ASTMD5127电子和半导体工业中用超纯水指南3术语和定义下列术语和定义适用于本文件。3.1总金属TotaImeta1样品不进行表面清洗处理,直接加酸消解、蒸干、定容检测得到的金属杂质含量。4方法提要试样用硝酸和氢氟酸溶解,硅以四氟化硅(SiF4)的形式挥发,加热蒸干后,残渣使用硝酸溶液溶解,利用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)在最优条件下测定溶液中待分析金
4、属元素的含量。5干扰因素1.1 样品应具有代表性,样品表面污染会影响检测结果,需要保证取样工具和取样袋的洁净。1.2 所用试剂的纯度,设备的清洁度,房间的洁净度,样品处理过程引入的污染,要严格控制。1.3 仪器测试过程中存在质谱和样品基体效应的干扰,仪器应选择对应的抗干扰模式,保证分析结果的准确性。6试剂或材料6. 1超纯水:所有的水应为ASTMD5127中描述的E-1.2型或其他品质相当的超纯水。6.1 硝酸:各金属杂质含量GOpptw。6.2 氢氟酸:各金属杂质含量1001-1000110001-500016.11 试环境7. 7洁净度:制样和测试区域洁净度应不低于GB/T25915.1-
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 流化床法颗粒硅总金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 流化床 颗粒 金属 含量 测定 电感 耦合 等离子 体质