区熔用多晶硅材料.docx
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1、YS中华人民共和国有色金属行业标准YS/TXXXX-202X区熔用多晶硅材料Po1ycrysta11inesi1iconmateria1sforf1oatzoned202X-xx-xx发布202X-xx-xx实施中华人民共和国工业和信息化部发布本文件按照GB/T1.2023的规定编写。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。本文件由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)提出并归口。本文件起草单位:陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司。本文件主要起草人:本文件首次发
2、布。区熔用多晶硅材料1范围本文件规定了区熔用多晶硅材料产品要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输、储存、随行文件和订货单(或合同)内容。本文件适用于以氯硅烷、硅烷为原料生长的区熔用多晶硅材料(以下简称“区熔硅”)。2规范性引用文件下列文件中的条款通过本文件的引用而成为本文件的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本文件,然而,鼓励根据本文件达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本文件。GB/T1550非本征半导体材料导电类型测试方法GB/T1551硅单晶电阻率的测定直排四探针法和直流两探针法G
3、B/T1553硅和铝体内少数载流子寿命测定光电导衰减法GB/T1557硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法GB/T1558硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法GB/T4059硅多晶气氛区熔基磷检验方法GB/T4060硅多晶真空区熔基硼检验方法GB/T4061硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法GB/T13389掺硼掺磷碑硅单晶电阻率与掺杂剂含量换算规程GB/T14264半导体材料术语GB/T14844半导体材料牌号表示方法GB/T17737.301同轴通信电缆第一301部分:机械试验方法椭圆度试验GB/T24574硅单晶中III-V族杂质的光致发光测试方法GB/T24581硅单晶中山、V族杂质含量的测
4、定低温傅立叶变换红外光谱法GB/T29057用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程GB/T35306硅单晶中碳、氧含量的测定低温傅立叶变换红外光谱法GB/T37049电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定3术语和定义GB/T14264界定的术语和定义适用于本文件。4技术要求4.1 产品牌号及类别4.1.1 区熔硅的牌号表示为:PSi-FZ1 用于区熔阿拉伯数字表示等级形态,A1为原生棒,M1为精磨棒生产方法,S为硅烷法,T为三氯氢硅法4.1.2区熔硅根据导电类型分为N型和P型,根据技术要求的差别分为3级。4.2 等级区熔硅的等级及相关技术指标应符合表1的规定。表1区熔硅材料等级及技术要求项目
5、技术指标要求1级2级3级受主杂质含量ppba0.030.030.03施主杂质含量ppba0.100.100.10总碳含量atomscm35.OX1O155.OX1O155.OX1O15总氧含量atomscm35.OX1O155.OX1O15Ni、Cu、Zn、Na)1.01.01.0直径mm150,190)120,150)90,120)4.3 尺寸4.3.1 区熔硅的长度应在IOOOmm至2100mm之间。4.3.2 精磨硅棒的直径偏差W2mmo4.3.3 源生区熔硅的直径及长度也可由供需双方协商确定。4.4 结构区熔硅应无氧化夹层和温度夹层。4.5 外观质量4.5.1 区熔硅表面:原生硅棒允许
6、出现机加过程中产生的污渍,精磨后表面洁净,无碎渣。4.5.2 区熔硅的端面:垂直于硅棒轴线切割,底端刻有批次号和硅棒编号。4.5.3 原生硅棒属性:内外弯曲W7mm,椭圆度W5mmo4.5.4 精磨硅棒属性:内外弯曲W2mm,椭圆度W2mmo5试验方法5.1 区熔硅进行施主杂质含量、受主杂质含量、碳含量、氧含量、导电类型、电阻率、少数载流子寿命、检验前按照GB/T4059、GB/T4060或GB/T29057的方法制成单晶试样。5.2 区熔硅导电类型检验按GB/T1550的规定进行。5.3 区熔硅中的施主杂质含量、受主杂质含量的测试按GB/T24574或GB/T24581规定进行。仲裁检验按照
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