晶圆级薄膜厚度标准片校准规范.docx
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1、OF中华人民共和国国家计量技术规范JJF晶圆级薄膜厚度标准片校准规范Ca1ibrationSpecificationofFi1m-ThicknessStandardsonWafer(征求意见稿)XXXX-XX-XX发布XXXXxxxx实施国家市场监督管理总局发布晶圆级薄膜厚度JJF-标准片校准规范Ca1ibrationSpecificationofFi1m-ThicknessStandardsonWafer归口单位:全国几何量长度计量技术委员会主要起草单位:参加起草单位:本规范委托全国几何量长度计量技术委员会负责解释本规范主要起草人:参加起草人:目录引言1范围12引用文件13概述14计量特性2
2、4.1 外观通用技术要求24.2 薄膜厚度校准值24.3 薄膜厚度示值误差24.4 薄膜厚度均匀性25校准条件21. 1环境条件25. 2主要校准设备36校准项目和校准方法36. 1校准前准备36.2薄膜厚度校准值36.2.1校准方法36.2.2测量结果36.3薄膜厚度均匀性46. 4.1校准方法47. 4.2测量结果47校准结果表达48复校时间间隔4附录A5附录B6JJFX-X引言JJF1OO1-2011通用计量术语及定义、JJFIo59.12012测量不确定度评定与表示、JJF1071-2010国家计量校准规范编写规则、JJF1094-2002测量仪器特性评定共同构成支撑本校准规范制定工作
3、的基础性系列文件。本规范为首次制定。晶圆级薄膜厚度标准片校准规范1范围本规范适用于晶圆级薄膜厚度标准片的校准,薄膜材料为硅上二氧化硅,校准方法为激光椭偏仪,同时其他材料的晶圆级薄膜厚度标准片的校准也可以参照本规范。2引用文件本规范引用下列文件:JJF100119982011通用计量术语及定义JJF1059.119992012测量不确定度评定与表示JJF10712010国家计量校准规范编写规则GJB8687-2015光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程GB/T12334-2001关于厚度测量的定义和一般规则凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本规范;凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所
4、有的修改单)适用本规范。3概述晶圆级薄膜厚度标准片(以下简称膜厚标准片)指以硅晶圆片为基底,采用化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)以及原子层沉积(A1D)等方法生长出微纳米量级的单层二氧化硅薄膜,主要被测参数为薄膜厚度,晶圆级薄膜厚度标准片是集成电路产线质控的必要器件。图1晶圆级薄膜厚度标准片激光椭偏方法是目前集成电路通用的晶圆级薄膜厚度的校准方法,能够准确的测量厚度范围(1-1000)nm的薄膜,激光椭偏测量院里如图2所示,其可测量的参数包括薄膜厚度、折射率等。图2激光椭偏仪测量原理图4计量特性4.1 外观通用技术要求(1)膜厚标准片不应有影响测量的外观缺陷;(2)膜厚标准片表面
5、不应有影响测量的水渍、灰尘、油迹等污染;(3)膜厚标准片的工作表面不应有腐蚀、碰伤、划痕、裂纹、磨损等表面缺陷;(4)膜厚标准片应对图形区域、有效测量区域、测量位置等工作区域给予明确标识,以便于使用校准。4. 2薄膜厚度校准值膜厚标准片基底以上沉积膜层厚度经过校准溯源后量值。5. 3薄膜厚度示值误差膜厚标准片测量值的算术平均值与标称值的差值。6. 4薄膜厚度均匀性膜厚标准片不同位置处膜厚测量值的标准偏差。5校准条件5.1环境条件项目名称参数要求环境温度(23O.5)温度变化0.2oCh相对湿度60%RH空气洁净度优于ISOC1ASS5(洁净度标准ISO14644-1)外界杂散光无外界震动和气流
6、对校准无影响说明:具体环境条件应满足客户校准需求,上述环境条件为一般通用要求。7. 2主要校准设备膜厚标准片的校准主要是通过激光椭偏仪完成,激光椭偏仪主要由光源(波长633nm激光器、起偏臂(起偏器、补偿器)、样品台、检偏臂(补偿器、分析器)等构成,原理如图2所示。6校准项目和校准方法6.1 校准前准备(1)被测标准片在实验室内恒温时间不少于12h;(2)校准设备开机预热,稳定时间不少于2h;(3)对校准设备、辅助工具进行清洁,更换专用载物台并调整水平,避免产生颗粒或金属离子污染;(4)调整校准设备入射光及出射光角度夹角为70;(5)分别设定基底折射率及膜层折射率,基底折射率s=3.875-0
7、.016i,膜层折射率1.460;(6)使用专用的辅助工具将膜厚标准片从晶圆盒中取出,确保膜厚标准片表面无颗粒、污损,并平稳放置于载物台上;(7)调节升降机构,使激光光斑入射在测量区域中心,调节俯仰机构使膜厚片标准片水平,然后可以开始测量。备注:整个操作过程应全程按照洁净室要求规范着装,同时建议2名或以上检定员分工协作,负责操作膜厚标准片的人员应避免佩戴专用洁净手套后接触具有污染风险的部件。6.2薄膜厚度校准值6.2.1校准方法选取被测膜厚片中心位置,以等间隔均匀选取中间、左、右(0mm、-2mm、+2mm)三个测量位置4(z=1,2,3),每个位置至少进行5次重复测量。6.2.2:则量结果薄
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